同花顺300033）金融研究中心12月23日讯，有投资者向华海清科提问， 你好，请问公司CMP设备具有的超洁净清洗等功能模块是否可以独立使用？比如，光刻后的清洗；刻蚀后的清洗等。谢谢！

　　公司回答表示，尊敬的投资者您好！公司CMP装备包含清洗模块，清洗技术均为公司自主研发，基于公司在此领域的技术积淀和集成电路客户需求，公司积极开展清洗装备的研发工作，主要面向材料端的终端清洗市场需求。公司自主研发的清洗装备已批量用于公司晶圆再生生产，应用于4/6/8英寸化合物半导体的刷片清洗装备和12英寸单片终端清洗机已实现首台验收，清洗产品进展顺利。感谢您对公司的关注。