金融界10月21日消息，有投资者在互动平台向国林科技提问：公司半导体用臭氧设备产品在半导体、面板、科研等行业领域出货验证，该产品用于化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中，请问公司该类产品属于国产替代吗？

　　公司回答表示：公司目前拥有并掌握了半导体行业用臭氧清洗设备制造及设计工艺多项关键技术，受国家政策支持和国外技术封锁限制，国产设备迎来进口替代良好契机，公司将积极把握市场机遇，加快实现国产替代。